Intel побудує напівпровідникові заводи в Німеччині ($33 млрд), Ізраїлі ($25 млрд) та Польщі ($5 млрд)
Сьогодні Intel уклала контракт на будівництво напівпровідникових заводів у Німеччині. Угода передбачає інвестиції на суму $33 млрд. Майданчик Intel неподалік від Магдебурга включатиме як мінімум два заводи. Фабрики будуть використовуватися для виробництва чипів «за більш сучасною технологією, ніж планувалося спочатку». При цьому компанія не розкриває, про який техпроцес йдеться, хоча і зазначає, що технологія належатиме епосі Angstrom (18A, 20A).
У рамках договору досягнуто згоди про державне субсидування проєкт на €10 млрд, пакет стимулювання має затвердити і Євросоюз. Очікується, що перший об’єкт розпочне роботу протягом 4-5 років.
Польщу чекає менш дорогий, але не менш значущий проєкт на €4,6 млрд – завод зі збирання та тестування напівпровідників. На об’єкті у Вроцлаві працюватимуть 2000 осіб, очікується, що його буде завершено 2027 року. Проєктування та планування розпочинаються негайно, будівництво розгорнеться після затвердження Європейською комісією.
Європейські зусилля Intel є частиною глобальної стратегії будівництва інфраструктури на континенті. Цей намір збігається з планами Євросоюзу стати «напівпровідниковою наддержавою» та забезпечувати себе критично важливими електронними компонентами.
Корпорація планує створення нового центру досліджень, розробок та проєктування у Франції, підприємства літографії та кінцевого виробництва в Ірландії, Італії, Польщі, Іспанії та інших країнах.
Також Intel планує розширювати свій майданчик в Ізраїлі, Кир’ят-Гаті. За словами прем’єр-міністра Біньяміна Нетаньяху, компанія має намір інвестувати $25 млрд у будівництво нового заводу. Очікується, що фабрика розпочне роботу у 2027 році, міністерство фінансів Ізраїлю очікує, що вона створить тисячі робочих місць. У рамках угоди податкову ставку Intel буде підвищено до 7,5% з нинішніх 5%.